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慧正資訊：5月27日，旭化成宣布已與三井化學簽署了關于將旭化成光掩模薄膜業務轉讓給三井化學的最終協議。旭化成計劃從三井化學獲得74億日元（約3.9億人民幣）作為分離后的權利和義務的對價，最終金額將根據最終協議進行調整后確定。

此次轉讓包括旭化成在日本、韓國、北美和中國制造、開發和銷售光掩模薄膜業務，以及受委托制造光掩模薄膜的Asahi Kasei的合并子公司Asahi Kasei EMS Co., Ltd. 的所有股份（業務），生效日期為2023年7月1日（預定）。

今后，三井化學將充分利用旭化成旗下的巖國大竹工廠和延岡工廠，整合和結合旭化成和三井化學積累的開發制造能力，謀劃進一步的業務拓展和提升。

光掩模

光掩模，也叫半導體光罩，是半導體光刻工藝中的高精密工具，主要由基板和不透光材料組成，起到光刻機與大硅片的橋梁和紐帶作用。

從規模看，光掩膜僅約占芯片總成本的13%，其價值遠低于占比38%的硅片，關注度更是與硅片相去甚遠。但小小的光掩膜價值卻非比尋常，它不僅是芯片制造中必不可少的核心材料之一，其質量的好壞更是直接決定芯片最終的性能。

全球領先的光掩模制造商的總部也大多設在日本。據CSET預計，日本企業控制了53%的商業光掩模市場，美國企業占比40%，臺灣企業占比7%。比如DNP、日本凸版印刷Toppan Photomasks兩家大廠都是日本廠商。

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