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上海新陽KrF(248nm)厚膜光刻膠產品成功取得首筆訂單

2021年07月01日09:48 來源:慧正資訊

慧正資訊:6月30日晚間,上海新陽發布公告稱,公司自主研發的KrF(248nm)厚膜光刻膠產品近日已通過客戶認證,并成功取得第一筆訂單。

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上海新陽是中國集成電路制造和封測關鍵工藝材料龍頭企業 , 已是中芯 、 長存 、 長鑫 、 長電 、 通富 、 華天等核心供應商 公司立足電子電鍍 電子清洗 、 電子光刻三大核心技術 。其中,KrF(248nm)厚膜光刻膠產品的開發和產業化是公司第三大核心技術——光刻技術的重要方向之一,以及 在半導體封裝領域功能性化學材料銷量與市占率全國第一 。除此之外, 上海新陽在集成電路制造芯片銅互連電鍍液及添加劑 、 蝕刻后清洗液已實現大規模產業化 , 被國內集成電路生產線認定為Baseline 基準線/基準材料 的數量為25條 是國內唯一一家能夠為晶圓銅制程90-28nm技術節點提供超純電鍍液及添加劑的本土企業 , 在多個客戶全球供應商評比中屢次獲得第一名。

此次產品認證的通過及訂單的取得,標志著“KrF(248nm)厚膜光刻膠產品的開發和產業化”取得了成功,為公司在光刻技術領域目標的全面完成奠定了堅實基礎。

上海新陽表示,光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料,廣泛應用于350nm-14nm 甚至 7nm 技術節點的集成電路制造工藝。隨著國內晶圓廠建設的不斷增多,以及國外光刻膠巨頭產能受限,供需緊張,國內對光刻膠產品的需求也將快速增長,公司光刻膠產品的訂單取得意義重大,將對公司該類產品的認證及銷售產生積極的作用,有利于公司業務的長期發展。

隨著全球缺芯潮繼續蔓延,晶圓代工廠的擴產勢能已傳導至產業鏈上游。而光刻膠作為半導體光刻工藝的核心材料,仍面臨較大缺口。在國產化良機推動下,上述上海新陽也在加碼半導體光刻膠的相關研發和產能建設。

此前,上海新陽擬募資開發集成電路制造中ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產品 , 力爭于2023年前實現上述產品的產業化 , 目前已購買數臺光刻機用于193nm ArF干法光刻膠和28nm 的高端光刻膠的研發 。 預計KrF厚膜光刻膠2021年開始實現少量銷售 2022年可實現量產 ; 預計ArF 干式 光刻膠項目在2022年可實現少量銷售 2023年開始量產 預計2023年各項產品銷售收入合計可達近2億元。

據2020年財報顯示,2020年1-12月營業總收入為693,885,788.88元,比上年同期增長8.25%;歸屬于上市公司股東的凈利潤為274,335,577.72元,比上年同期增長30.44%。

談及業績的變動原因,上海新陽表示,2020年克服了新冠疫情帶來的不利影響,并抓住半導體行業發展機遇,積極進行產業結構布局,主營業務收入持續穩步增長。其中,半導體業務增長達到20%以上,晶圓制造及先進封裝用電鍍及清洗液產品銷售實現大幅增長。公司長期以來的高研發投入在當前的經濟環境下取得了較大優勢。

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