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三井化學(xué)成為全球首家EUV防護(hù)膜制造商

2021年05月28日14:20 來源：慧正資訊

慧正資訊：5月28日，三井化學(xué)宣布，將基于ASML的設(shè)計和技術(shù)，在巖國-大竹制鐵工廠進(jìn)行EUV防護(hù)膜的商業(yè)化生產(chǎn)，成為世界上第一家開始商業(yè)化生產(chǎn)的防護(hù)膜制造商。

為了滿足EUV防護(hù)膜和其他與ICT相關(guān)的產(chǎn)品的需求，以滿足客戶對技術(shù)創(chuàng)新（例如不斷完善的半導(dǎo)體）的需求，三井化學(xué)的目標(biāo)是為改善人們的生活和社會做出廣泛的貢獻(xiàn)。

5G電信的最新趨勢要求在智能手機(jī)中使用快速處理器。用于這些高級處理器的芯片現(xiàn)在必須具有7納米或更小的線寬-真正推動了EUV光刻技術(shù)的普及，該技術(shù)可提供超短波長。

EUV防護(hù)膜可防止光罩受到灰塵污染，因此有助于在此類光刻工藝中提高生產(chǎn)率。

ASML是全球最大的半導(dǎo)體光刻設(shè)備供應(yīng)商，是唯一成功開發(fā)EUV光刻設(shè)備和EUV防護(hù)膜的制造商。

自1984年首次推出用于光刻工藝的防護(hù)膜以來，三井化學(xué)一直在努力提高防護(hù)膜的質(zhì)量，以適應(yīng)半導(dǎo)體電路線寬度小型化的進(jìn)步。三井化學(xué)在這里的工作表明，它積累了與圍堵管理等相關(guān)的大量生產(chǎn)專業(yè)知識-現(xiàn)在已將其用于生產(chǎn)EUV防護(hù)膜。

展望未來，三井化學(xué)將通過與ASML合作，對EUV防護(hù)膜技術(shù)進(jìn)行改進(jìn)和創(chuàng)新，以跟上EUV光刻設(shè)備的發(fā)展。